Nieuwe Extreem UV licht faciliteit

TNO kondigt vandaag het zogenoemde first light aan van de speciaal ontwikkelde en in de wereld unieke Extreem Ultra Violet (EUV) belichtings-  en analysefaciliteit EBL-2. Met first light schijnt het eerste keer licht uit de EUV-bron op een testmonster in de belichtingskamer. Dit is een belangrijke functionele test dat het concept werkt. Daarmee ligt het project op schema.

Nu start de laatste fase van het bouwproject om de integratie af te ronden en het systeem te testen en te kwalificeren. Klanten over de hele wereld kunnen vanaf april 2017 gebruik maken van dit systeem. EBL-2 is mede tot stand gekomen door een bijdrage uit het Toekomstfonds en van het NanoLabNL.

In de race om chips steeds kleiner, sneller en zuiniger te maken schakelt de chipindustrie over naar het gebruik van EUV-licht in lithografiesystemen. Hierdoor is het noodzakelijk om de natuurkundige en de scheikundige aspecten van de interactie tussen materialen en EUV-licht te begrijpen. TNO heeft hiervoor met een aantal partners als USHIO en ASYS de wereldwijd unieke onderzoeksfaciliteit EBL-2 ontworpen en gebouwd.

Het systeem is mede tot stand gekomen door een lening uit het toekomstfonds van Economische Zaken en bestaat uit een EUV-belichtingstak en een XPS-analysetak. De EUV belichtingstak bestaat uit de lichtbron van USHIO een lichtbundelingsunit, en de belichtingskamer.

Het Sample-laadsysteem van ASYS, bevat een atmosferische en een vacuüm-robot, en een plasmareinigingskamer. Het XPS-systeem, dat gefinancierd is vanuit NanoLabNL, dient voor chemische analyse van het oppervlakte van het sample. Het geheel opereert in ultra schoon vacuüm.